在高精密涂布和更广泛领域成为世界级头部企业。
技术规格参数 | 标准值 | ||
nRad/SRD200 | nRad2/SRD300 | ||
基片尺寸 |
标准150*150mm 最大尺寸210x300mm,150或200mm晶圆 |
标准300x300mm,最大尺寸370x470mm 晶圆尺寸可达300mm |
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基片类型 | 玻璃、塑料、金属箔、硅晶圆、刚性或柔性基板 | 玻璃、塑料、金属箔、硅晶圆、刚性或柔性基板 | |
基片厚度 | 刚性:0.5~6mm,柔性:>100μm | 刚性:0.5~6mm,柔性:>100μm | |
涂布厚度范围 | 20nm~大于50μm (干膜,取决于材料属性与系统参数设置) |
20nm~大于50μm (干膜,取决于材料属性与系统参数设置) |
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涂布一致性/均匀性 |
对于大于150nm的膜厚(干膜),±3%或更优 对于50~150nm的膜厚(干膜),±5%或更优 |
对于大于150nm的膜厚(干膜),±3%或更优 对于50~150nm的膜厚(干膜),±5%或更优 |
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涂布开始/结束边缘 影响宽度 |
5~10mm或更小 | 5~10mm或更小 | |
涂布材料粘度范围 | 标准1~50cP,使用高粘度系则可达10000cP | 标准1~50cP,典型地使用高粘度泵则可达10000cP | |
系统填充量 | 低于20ml以下 | 低于30ml以下 | |
系统尺寸及重量 | 长x宽x高:911mmx780mmx878mm 重量:170kg/380lbs |
长x宽x高:1307mmx941mmx921mm 重量大约:370kg/800lbs |
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认证 | UL&CE | UL&CE |